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Sistemas de deposição

Na Álava Ingenieros, queremos oferecer aos nossos clientes soluções para qualquer cenário que possa surgir. Por este motivo, dispomos de uma grande variedade de tecnologias de deposição, desde PVD, CVD, ALD a qualquer outro sistema de interesse.

Descrição

Na Álava Ingenieros trabalhamos para fornecer a melhor solução, com as últimas inovações do mercado. Por esta razão, trabalhamos com fabricantes com um elevado nível de reconhecimento em diferentes tecnologias, tais como Beneq, Tecnovak, C-Technano, etc.

ALD: Trata-se de uma técnica de deposição de película fina átomo a átomo. É amplamente utilizada no fabrico de semicondutores, dispositivos electrónicos, etc. Também é utilizada para a proteção de metais, ferramentas e jóias. Na Álava Ingenieros, oferecemos desde equipamento barato para investigação, até equipamento mais complexo para linhas de produção ou que exijam um elevado nível de personalização.

PVD: ou deposição física de vapor, é uma técnica utilizada para aplicar revestimentos finos em várias superfícies. Envolve a vaporização de um material sólido (alvo) ou líquido dentro de uma câmara de reação sob condições de vácuo, convertendo este alvo num gás, que é depositado sobre os substratos, formando uma camada fina e uniforme. É um processo muito utilizado no fabrico de ferramentas de corte, dispositivos electrónicos, ótica, componentes decorativos, etc. Os métodos mais comuns são a Deposição Térmica, o E-Beam e o Sputtering.

A CVD, ou deposição química de vapor, é outro processo utilizado para a formação de películas finas sobre substratos, neste caso a partir de reacções químicas gasosas. Ao contrário do anterior, neste caso os precursores encontram-se em estado gasoso e são pulverizados na câmara de reação. Utiliza-se no fabrico de semicondutores, no crescimento de diamantes, em revestimentos protectores sólidos sobre substratos, etc.

Documentos

Auto_SE_Spectroscopic_Ellipsometer_Brochure

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